据悉，中导光电的NanoPro-1XX产品系列最高灵敏度达100nm，适用于半导体芯片0.13μm-0.18μm及以上制造工艺需求。

       该产品系列除与国际顶尖公司同类产品在灵敏度、检出速度（Throughput）等主要性能参数相似外，还具有多项技术创新和特点：
       一是，集“亮场/Bright Field”和“暗场/Dark Field”于一体，既保证了对光刻、刻蚀等关键制程的检测要求，也提供了对镀膜、CMP等制程以及裸片的经济高效检测方案，极大地拓展了设备的应用场景，降低了设备的使用成本（COO）；
       二是，采用“多通道成像（MCI）技术”，提高了设备对不同“被检测材料/物体”的检测灵敏度，并解决了“膜色变化/Color Variation”对检测的干扰；
       三是，使用“动态影像解析度扩展（HDR）”技术，更好地解决了“金属-非金属”混合表面“明暗反差”问题；
       四是，根据客户需求，该设备可兼容两种不同的晶圆尺寸，如8英寸与12英寸、6英寸与8英寸、5英寸与6英寸等，拓展了设备使用范围；
       五是，集成了大量先进的图像识别与人工智能软件技术，且能够与国际半导体制造业通用软件系统和信息交换系统相匹配。  

       与“无图形晶圆缺陷检测设备”相比较，“有图形晶圆缺陷检测设备”技术难度大幅提升，运用范围更广，产品的经济价值和市场空间也是“无图形晶圆缺陷检测设备”的数倍。据了解，此次交付的NanoPro-150机型是国内半导体前道制程有图形检测设备国产化的一次突破。
       中导光电是一家半导体工业前道制程高端缺陷检测设备研发和产业化的专业公司。中导光电于成立以来的16年内，在平板显示（FPD）等工业领域，销售各种亚微米（≥0.5μm）“有图形”检测设备近300台。公司曾承担国家“863计划”科研项目、工信部科研项目、省市科研项目数十项，积累了丰富的半导体高端检测设备研发与产业化经验，是半导体工业前道制程高端缺陷检测领域的关键国产替代供应商。

       中导光电的NanoPro-2XX系列产品，最高灵敏度达70nm左右，适用于60nm-90nm半导体工艺；其NanoPro-3XX系列产品，最高灵敏度达40nm左右，适用于45nm-60nm半导体工艺。NanoPro-2XX系列产品将于明年接受客户订单，NanoPro-3XX也将随后完成研发，接受客户评估。中导光电目前进入销售和量产的NanoPro-1XX系列产品和MDI亚微米检测设备，加上NanoPro-2XX和NanoPro-3XX将先后进入市场，可覆盖国内半导体前道检测设备需求市场的90%以上，给中国半导体工业检测设备的国产化带来曙光。